Van het de Laserskrypton van de combinatiestikstof van het Neonmengsels het Halogeengasmengsel

Van het de Laserskrypton van de combinatiestikstof van het Neonmengsels het Halogeengasmengsel

Beschrijving:

De Mengsels van het kryptonneon worden gebruikt in 248 NM-lithografietoepassingen, gewoonlijk samen met a
halogeengasmengsel.

De stikstoflasers en excimer de laser worden gebruikt in het gepulseerde kleurstoflaser pompen. [5]
De ionenlasers, meestal argon, worden gebruikt in CW kleurstoflaser het pompen.
Excimer de lasers worden door een chemische reactie aangedreven die een opgewekt dimeer, of excimer impliceren, dat een kortstondige molecule met twee delen of heterodimeric die van twee species wordt gevormd zijn, minstens één waarvan in een opgewekte elektronische staat is. Zij veroorzaken typisch ultraviolet licht, en in halfgeleiderfotolithografie en in LASIK-oogchirurgie gebruikt. Omvatten de algemeen gebruikte excimer molecules F2 (fluor, die bij 157 NM uitzenden), en edel gassamenstellingen (ArF [193 NM], KrCl [222 NM], KrF [248 NM], XeCl [308 NM], en XeF [351 NM]).

Specificaties:

1. Fysische eigenschappen

2. Typische technische gegevens (COA)

3. Pakket

Toepassingen:

De Mengsels van het kryptonneon worden gebruikt in 248 NM-lithografietoepassingen, gewoonlijk samen met a
halogeengasmengsel.