Hoge Zuiverheid 99,9% Hexafluoroethane F116 van Relatieve Dichtheids Elektronische Gassen

High Relative Density Electronic Gases Purity 99.9% Hexafluoroethane F116

Basisinformatie

Plaats van herkomst:	China
Merknaam:	Newradar Gas
Certificering:	ISO/DOT/GB
Modelnummer:	N/A

Min. bestelaantal:	1000 Kilogram
Prijs:	negotiation
Verpakking Details:	standaard de uitvoerverpakking: elke cilinder die door twee poly-netten moet worden beschermd, die z
Levertijd:	15-25 ontvingen de werkdagen na uw betaling
Betalingscondities:	L/C, T/T, Western Union, MoneyGram
Levering vermogen:	3,00 ton per maand

Beste prijs Contact nu

Gedetailleerde informatie

Gezondheidsrisico's:	hoge relatieve dichtheid	IPCC-lijst van broeikasgassen.:	ja
Andere Namen:	Koolstofhexafluoride, 1,1,1,2,2,2-Hexafluoroethane, Perfluoroethane, Ethforane, Halocarbon 116, pfc-	Verschijning::	Kleurloos Vloeibaar Gas
DE V.N. NR.:	2193	Rangnorm:	De Industriële Rang van de elektronenrang
Synoniemen:	1,1,1,2,2,2-Hexafluoroethane; C2F6; ethaan, hexafluoro-; Ethylhexafluoride; f116; F-116; FC1160; Flu	Toepassing:	Elektronikamateriaal, transformator, koelende vloeistof
MF::	C2F6
Hoog licht:	Elektrisch Gas , zuiverheid plus specialiteitgassen

Productomschrijving

Zuiverheid 99,9% Hexafluoroethane, F116 voor Ets van Siliciumdioxyde over Silicium

Beschrijving:

Hexafluoroethane kan in een multifunctionele etstechnologie worden gebruikt, gemeenschappelijk in de productie van halfgeleiders. Het kan voor metaalsilicide en metaaloxide en selectieve ets met betrekking tot zijn metaalmatrijs worden gebruikt. Bovendien wordt het ook gebruikt om silicium op silicium te etsen.

Hexafluoroethane kan samen met trifluoromethane voor koelmiddel R508A (hexafluoroethane 61%) en R508B (hexafluoroethane 54%) worden gebruikt.

Specificaties:

1. Fysische eigenschappen

Goederen	Hexafluoroethane
Moleculaire Formule	R116
CAS No	76-16-4
De V.N. Nr.	2193
Gevaarlijke Klasse	2.2
MF:	C2F6
Cilinderinhoud	40L, 500L
Vullend Gewicht	530kg/500L navulbare cilinder 20kg/40L navulbare cilinder
Opslag en Vervoer	Gebruik, opslag en vervoer onder 45C. Opslag op koele en goed-geventileerde gebieden. Blijf van brand, hitte, zonlicht en ontvlambare stoffen weg. Handvat zorgvuldig wanneer het laden van en het leegmaken om schade aan gasflessen en toebehoren te vermijden.

2. Typischetechnischegegevens

Zuiverheid, %	≥99.8
Vochtigheid, P.p.m.	≤10
Zuurheid, P.p.m.	≤1
Dampresidu, P.p.m.	≤100
Verschijning	Kleurloos, Geen troebel
Geur	Geen Vreemde Stank

Molecuulgewicht	66.1
Kookpunt, °C	-24.7
Kritische temperatuur, °C	113.5
Kritieke Druk, Mpa	4.58
Specifieke Hitte van Vloeistof, 30°C, [kJ (kg°C)]	1.68
ODP	0
GWP	0,014

Toepassingen:

Multi - Functionele Etstechnologie

In de Productie van Halfgeleider ets van metaal

Het Metaalsubstraat

Het kan in de selectieve ets van het metaal en het metaaloxide van het metaalsilicium worden gebruikt.

Onder verlengde blootstelling aan brand of intense hitte kunnen de containers hevig verbreken en raket.

label:

Hoge Zuiverheid 99,9% Hexafluoroethane F116 van Relatieve Dichtheids Elektronische Gassen

Elektrisch Gas

zuiverheid plus specialiteitgassen

Zuiverheid 99,9% Hexafluoroethane, F116 voor Ets van Siliciumdioxyde over Silicium

Stikstofgas,

Elektrisch Gas,

stikstofgasfles

Halocarbon 116 van CAS 76-16-4

Zwavelhexafluoride Elektronische Gassen

De Elektronische Gassen van het hoge Zuiverheidssilaan SiH4

H2S de Kaliberbepalingsgas van het Waterstofsulfide

Ar/F2/He/Ne excimer lasergas voor lens wordt gemengd die xecl laserexcimer lasers produceert die

Het Gas van de isobutyleenkaliberbepaling 100 van het het elektronenp.p.m. gas van de Saldolucht

Stikstoffluoride NF3, nf3-gas

De Zwavelhexafluoride van de industrie Elektronisch Gassen Gas Gasachtig Diëlektrisch Middel