Elektrische Gasc4f6 Zuiverheid 99,95% het Etsen Gas voor Halfgeleiderverwerking

C4F6 zuiverheid 99,95% het Etsen Gas voor Halfgeleiderverwerking

Beschrijving:

hexafluoro-1,3-butadieen (C4F6) het droge etsgas dat het zich in Rusland heeft ontwikkeld. C4F6 laat droge ets bij een lijnbreedte toe van zo smal zoals 90 NM of minder. Het is daarom onontbeerlijk voor verwerkingssysteem LSIs en hoge snelheid, geheugenapparaten met hoge capaciteit die meer en meer in digitale elektrische toestellen en liquide crystale displays worden gebruikt.

Fluorocarbon de gassen worden wijd gebruikt voor het oxydefilm van het verwerkingssilicium. Vergeleken die met octafluorocyclobutane (C4F8) momenteel voor verwerking bij de lijnbreedte wordt gebruikt van 130 NM, heeft C4F6 de volgende voordelen:

STANDAARDpakket INFORMATIE-AZIË EN NOORD-AMERIKA

Toepassingen:

1. Het kan in op fluor-gebaseerd ets gebruiken.

2. Het kan ook in het schoonmaken van gassen gebruiken,

3. C4F6 kan als organometallic film gebruiken vormt gassen,