De beschimmelde Gassen van de Geur ultra Hoge Zuiverheid voor Elektronische Industrie, Smeltpunt −207.15 °C

Stikstoftrifluoride NF3, 99.99~99.999%, in Plasma Ets van Siliciumwafeltjes dat wordt gebruikt

Beschrijving:

Het stikstoftrifluoride (NF3) is een nieuw speciaal gas voor de elektronische industrie als het schoonmaken van gas voor en plasma die, wijd gebruikt in TFT LCD, halfgeleider en de zonnephotoelectricityindustrie enz., die voordelen van geen remaing, hoge het schoonmaken snelheid hebben en gemakkelijk te ontbinden schoonmaken etsen.

Weloverwogen gebaseerd op de elektrolyse en van de fluoridenproductie technologie, door ononderbroken R&D voor verscheidene jaar, heeft het bedrijf verscheidene produiontechnologie geavanceerd in de wereld bereikt. Sinds 2009 is LRICI stabiel een leverancier met hoge reputatie van het gas van elektronisch-rangproducten NF3 aan de binnenlandse klanten en klanten van Japan, Taiwan, Zuid-Korea Enz. geweest. Het bedrijf heeft nu capaciteit van 1000 t/a en kan ECU onophoudelijk en stabiel porren dan 99,999% zelfs meer specificatie, NF3-productie.

Specificaties:

1. Fysische eigenschappen

2. Typische technische gegevens

3. Pakket

PUNT 3AA/van het staalcilinders van GB5099 naadloze de toncilinder

Toepassingen:

Het stikstoftrifluoride (NF3) is wijd gebruikt in de elektronische industrie, halfgeleider en zonne de foto-elektriciteit industrie enz. het een goede etsend en schoonmakend gas met voordelen van geen het blijven is, hoge het schoonmaken snelheid en gemakkelijk te ontbinden.