10% relevante en Waterstofgasmengsels in 49L-Cilindersgebruik in Halfgeleiderindustrie

10% relevante en Waterstofgasmengsels in 49L-Cilindersgebruik in Halfgeleiderindustrie

Beschrijving:

Het gas ontbindt dichtbij 600K aan germanium en waterstof. Wegens zijn thermische relevante labiliteit, wordt gebruikt in de halfgeleiderindustrie voor de epitaxial groei van germanium door MOVPE of chemische straalepitaxy. De Organogermaniumvoorlopers (b.v. isobutylgermane, alkylgermaniumtrichloriden, en imethylaminogermaniumtrichloride) zijn onderzocht als minder gevaarlijke vloeibare alternatieven voor relevant voor deposito van GE-Bevattende films door MOVPE.

Specificaties:

1. Fysische eigenschappen

2. Typische technische gegevens (COA)

3. Verpakkingsdetails:

4. Toepassingen:

Het stikstoftrifluoride (NF3) is wijd gebruikt in de elektronische industrie, halfgeleider en zonne de foto-elektriciteit industrie enz. het een goede etsend en schoonmakend gas met voordelen van geen het blijven is, hoge het schoonmaken snelheid en gemakkelijk te ontbinden.