products

UHP-de Zuurstof van de Specialiteitgasmengsels van van Gaso2 en CF4 met Tetrafluoromethane-Mengselfabrikant

Basisinformatie
Plaats van herkomst: China
Merknaam: newradar / accept OME
Certificering: ISO/DOT/GB
Modelnummer: N/A
Min. bestelaantal: 1000 Liter
Prijs: negotiation
Verpakking Details: 10kg, 40kg of 50kg in de gekwalificeerde die gasfles wordt of volgens de eisen wordt ingepakt ingepa
Levertijd: 15-25 ontvingen de werkdagen na uw betaling
Betalingscondities: L/C, T/T, Western Union, MoneyGram
Levering vermogen: 3,00 kubieke meter per maand
Gedetailleerde informatie
Toepassing: 248nm lithografieproces en Gemengd met Halogeen die Gemengde Gassen gebruiken CF4: tetrafluoromethane
De V.N. Nr: 1982 Zuurstof: O2
Pakket:: naadloze staalcilinders Andere Namen: Tetrafluoride van de zuurstofkoolstof Mengsel
Verschijning:: Kleurloos gas Cilindersvolume:: 10L, 25L, 40L of 50L
Rangnorm: De Rang van de elektronenrang Giftig: Niet-toxisch
Hoog licht:

de specialiteitgassen van luchtliquide

,

speciale gassen


Productomschrijving

 

UHP-de Zuurstof van de Specialiteitgasmengsels van van Gaso2 en CF4 met Tetrafluoromethane-Mengselfabrikant

 

Beschrijving:

 

Anisotrope etch.control. Andere halocarbons, evenals aanwezigheid van lucht of zuurstof, zijn schadelijk aan de controle van theTetrafluorideresultaten in superieure controle van het proces, dat in beter dimensionaal en profiel resulteert. Een hogere zuiverheid Carbonor CF2conditions, het fluor de vrije basissen typisch in de vorm van CF3Carbon-Tetrafluoride zijn is vrij inert in de normale omstandigheden en is asphyxiant. Onder rf plasmaprocesses. Koolstoftetrafluoride wordt gebruikt met zuurstof om polysilicon, siliciumdioxyde, en siliciumnitride te etsen. Koolstoftetrafluoride is een bron van fluor of koolstoffluoride de vrije die basissen in een verscheidenheid van wafeltje worden gebruikt etsen

 

 

Specificaties:

 

1. Fysische eigenschappen

 

Major Components
COMPONENTEN CONCENTRATIE WAAIER
O2 20% 19.9-20.1%
CF4 Saldo  

 

 

 

 

 

 

2. Typischetechnischegegevens(COA)

 

Maximumonzuiverheden
COMPONENTEN CONCENTRATIE (p.p.m.)
Kooldioxide (Co2) <1>
Koolmonoxide (Co) <1>
Vochtigheid (H2O) <0>
Stikstof (N2) <10>
Zuurstof (O2) <5>
THC (als Methaan) (ch4) <0>
Andere Halocarbons <1>
Zwavelhexafluoride <1>

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Cilinder Specifications* Inhoud Druk
Cilinder De Opties van de klepafzet Ponden Psig BAR
2 CGA 580 DISS 716 70 2000 139

 

 

 

 

 

Toepassingen:

 

1

 Tetrafluoromethane wordt soms gebruikt als lage temperatuurkoelmiddel.

 

2

 Het wordt gebruikt in elektronikamicrofabrication alleen of in combinatie met zuurstof als plasma etchant voor silicium, siliciumdioxyde, en siliciumnitride.

 

3

 Het heeft ook gebruik in neutronendetectors

 

 

Contactgegevens
Vicky Liu

Telefoonnummer : 86-27-82653381

WhatsApp : +8613667126861