C4F6 elektronische Gassen voor Digitale Elektrische Toestellen/Vloeibaar Crystal Displays

C4F6 gas in digitale elektrische toestellen en liquide crystale displays wordt gebruikt dat

Beschrijving:

In de C4F6-molecule C: F de verhouding is hoog genoeg om de hoeveelheid polymeer op de kameroppervlakte en wafeltjeoppervlakte met betrekking tot F-etsbasissen te controleren. Belangrijker is, dat het intrinsieke kenmerk hoge selectiviteit aan substraten toestaat of de foto zich en bredere procesvensters in vergelijking met b.v. C4F8 verzet tegen (Octafluorobutane). Dit gedrag is bijzonder voordelig om op de behoefte aan sub 0,25 m-vereisten gericht te zijn.

Bij het gebruiken van Argon als draaggasnitride kan de selectiviteit in een dalende functie resulteren. Het xenon als ander mogelijk draaggas heeft een verhoogde selectiviteit. Daarom zijn de mengsels van Ar/Xe een goed compromis.

Markten & Toepassingen

TOXICOLOGISCHE INFORMATIE

Toepassingen:

1. C4F6 wordt voorgesteld voor het gebruik in plasma, ionenstraal of sputtert ets in halfgeleiderapparaten productie.

2. In het bijzonder zijn de opmerkelijke resultaten waargenomen in plasma diëlektrische ets met Xe en AR als draaggas en dilutants. In plasma diëlektrische ets is het belangrijk om de plasmachemie te controleren in evenwicht te brengen ets en depositospecies.